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钨铜合金表面怎么进行无纹路抛光处理

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1#
发表于 2018-5-15 10:53:20 | 只看该作者 回帖奖励 | 倒序浏览 | 阅读模式
钨铜产品(含钨90%,铜10%,钨粉压制成型后将铜融化渗入坯料),硬度约220-240HB,进行精雕表面或者研磨表面处理后表面粗糙度Ra可以达到0.4以下,但是在20倍显微镜下会有明显加工纹路或者浅划伤,不能进行震动或者滚筒抛光(会碰伤),怎么解决该类产品的表面问题,求大神赐教。。
" Y! A* `9 c7 R6 U! u
2#
发表于 2018-5-15 11:40:00 | 只看该作者
没有产品形状的都是耍流氓
3#
发表于 2018-5-15 13:46:26 | 只看该作者
1.理论上通过机械抛光获得的表面粗糙度最小,对于W70Cu30合金可达到0.044 μm,电解抛光次之,机械磨光最大;* }- b+ W. K# Z3 s8 K: t. W
2.硫酸-磷酸系适用于W90Cu10 的电解抛光, 初步确定了电解抛光的最佳工艺参数为:硫酸与磷酸体积比2 ∶7 、温度为45 ~55 ℃、抛光时间4 ~ 6 min 、电流密度15 ~ 25 A/dm2 。经电解抛光, 试样表面相对反射率高达90 %以上, 原始表面的微小的划痕可以完全消除。
4#
发表于 2018-5-15 13:56:02 | 只看该作者
好整,看形状与公差要求。无图无真相
5#
楼主 | 发表于 2018-5-15 15:01:01 | 只看该作者
一朵娇粉嫩的花 发表于 2018-5-15 11:40
2 a9 |6 V+ W* D4 [( z$ X' A8 A9 |没有产品形状的都是耍流氓
: L$ `. B2 Y, X* ]% v& F2 c
这是产品 的基本要求

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6#
楼主 | 发表于 2018-5-15 15:02:45 | 只看该作者
老烟枪 发表于 2018-5-15 13:56
7 k0 Z' M+ {& f% P好整,看形状与公差要求。无图无真相

3 B) w* G6 F3 W( e要求表面无纹路
4 n* i6 \7 ^% R1 a% w6 f' U

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7#
楼主 | 发表于 2018-5-15 16:11:52 | 只看该作者
xuzele 发表于 2018-5-15 13:46 3 _$ v' m6 @: s; V7 o
1.理论上通过机械抛光获得的表面粗糙度最小,对于W70Cu30合金可达到0.044 μm,电解抛光次之,机械磨光最大 ...
$ |* f4 W) {3 |% }' Y
刚才试过你这个方法了,但是没反应,倒是316不锈钢可以抛光* i8 [4 Z b2 ~; }
8#
发表于 2018-5-15 16:36:51 | 只看该作者
xushunqiang 发表于 2018-5-15 16:11
& Z$ e- E0 S' w5 v) s刚才试过你这个方法了,但是没反应,倒是316不锈钢可以抛光
" D/ w: b5 h+ t, x+ @" O2 E
你试的电解抛光吗,没反应可能是因为钨铜表面必须预加工到比较高的光洁度,电解抛光才能获得较高的抛光质量,抛光前要除油去氧化处理,电解液要加入聚乙二醇、硫脲、丙三醇等作为添加剂。# p& \0 m( n& o, B
8 G) M& [ x* }. I9 m+ y* M1 z: c+ X
9#
楼主 | 发表于 2018-5-15 18:22:10 | 只看该作者
xuzele 发表于 2018-5-15 16:36
" J A3 w% L7 ~6 d3 H5 \你试的电解抛光吗,没反应可能是因为钨铜表面必须预加工到比较高的光洁度,电解抛光才能获得较高的抛光质 ...
9 j$ `& q& _. v/ w2 l1 U* I7 t0 P
抛光前Ra小于0.15,是用的电解法,聚乙二醇聚合度多少呢?方便告知这三种添加剂的加入量吗?1 k4 _% q, k' W' _( q
4 _4 k, e2 r4 _4 k
10#
发表于 2018-5-15 18:44:24 | 只看该作者
化学机械抛光,平面研磨抛光,lapping,我说的这个三个名词其实是同一种抛光工艺,可以做到完全无划痕6 V; @; Q% T* n7 `8 G7 T# }! {
$ T7 L4 u6 }# R' i& q
但是价格不会很便宜,你可以上网搜索下能加工的供应商/ J7 A& T2 m- d6 u4 w) }

- t6 D4 i+ b& {& u+ g- x不会提醒一下,看你电镀要求是镍0.5微米,粉末压制成型的工件使用铜来填充 但是肯定还是有间隙,注意电镀后吐酸问题,这个问题可能比你抛光还难解决
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