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钨铜合金表面怎么进行无纹路抛光处理

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1#
发表于 2018-5-15 10:53:20 | 只看该作者 回帖奖励 | 倒序浏览 | 阅读模式
钨铜产品(含钨90%,铜10%,钨粉压制成型后将铜融化渗入坯料),硬度约220-240HB,进行精雕表面或者研磨表面处理后表面粗糙度Ra可以达到0.4以下,但是在20倍显微镜下会有明显加工纹路或者浅划伤,不能进行震动或者滚筒抛光(会碰伤),怎么解决该类产品的表面问题,求大神赐教。。
6 @. F/ c3 O. v( | @9 W0 i
2#
发表于 2018-5-15 11:40:00 | 只看该作者
没有产品形状的都是耍流氓
3#
发表于 2018-5-15 13:46:26 | 只看该作者
1.理论上通过机械抛光获得的表面粗糙度最小,对于W70Cu30合金可达到0.044 μm,电解抛光次之,机械磨光最大;* ~0 s$ F4 y: q+ r3 l
2.硫酸-磷酸系适用于W90Cu10 的电解抛光, 初步确定了电解抛光的最佳工艺参数为:硫酸与磷酸体积比2 ∶7 、温度为45 ~55 ℃、抛光时间4 ~ 6 min 、电流密度15 ~ 25 A/dm2 。经电解抛光, 试样表面相对反射率高达90 %以上, 原始表面的微小的划痕可以完全消除。
4#
发表于 2018-5-15 13:56:02 | 只看该作者
好整,看形状与公差要求。无图无真相
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楼主 | 发表于 2018-5-15 15:01:01 | 只看该作者
一朵娇粉嫩的花 发表于 2018-5-15 11:40 - `/ v, f+ ~6 T9 \ f
没有产品形状的都是耍流氓

& r" c+ K! z6 a3 o6 M5 Y这是产品 的基本要求

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6#
楼主 | 发表于 2018-5-15 15:02:45 | 只看该作者
老烟枪 发表于 2018-5-15 13:56 # T3 Y( x9 x% s* i
好整,看形状与公差要求。无图无真相
) k9 s: Y5 `% o
要求表面无纹路, v" [* M T, n$ i8 C- Z; Z) x$ h

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7#
楼主 | 发表于 2018-5-15 16:11:52 | 只看该作者
xuzele 发表于 2018-5-15 13:46 # o! C' ~! ?( K; o! A a4 Z! G
1.理论上通过机械抛光获得的表面粗糙度最小,对于W70Cu30合金可达到0.044 μm,电解抛光次之,机械磨光最大 ...
- F3 ]: r4 Q5 x0 |- {
刚才试过你这个方法了,但是没反应,倒是316不锈钢可以抛光
0 _+ \" \/ {2 `
8#
发表于 2018-5-15 16:36:51 | 只看该作者
xushunqiang 发表于 2018-5-15 16:11 1 U) U4 {* {6 f4 g
刚才试过你这个方法了,但是没反应,倒是316不锈钢可以抛光
" l) \" j2 e- Q T
你试的电解抛光吗,没反应可能是因为钨铜表面必须预加工到比较高的光洁度,电解抛光才能获得较高的抛光质量,抛光前要除油去氧化处理,电解液要加入聚乙二醇、硫脲、丙三醇等作为添加剂。
2 D* U( E2 c3 b. ^% h; x" a: g6 N; J: \ R6 J* I- m( ?
9#
楼主 | 发表于 2018-5-15 18:22:10 | 只看该作者
xuzele 发表于 2018-5-15 16:36 & N8 A! S3 F+ \, d- a% g" R+ ?4 `
你试的电解抛光吗,没反应可能是因为钨铜表面必须预加工到比较高的光洁度,电解抛光才能获得较高的抛光质 ...

8 e* G6 k, I6 C* W' H: D抛光前Ra小于0.15,是用的电解法,聚乙二醇聚合度多少呢?方便告知这三种添加剂的加入量吗?u) V& A6 Z' A& H4 g: j
" I/ v; [9 V, U- Y, l
10#
发表于 2018-5-15 18:44:24 | 只看该作者
化学机械抛光,平面研磨抛光,lapping,我说的这个三个名词其实是同一种抛光工艺,可以做到完全无划痕5 j9 Y) [" v3 W3 J( Q7 H. e

1 L' J$ ?, M1 q; t. W. A d但是价格不会很便宜,你可以上网搜索下能加工的供应商
# u" \5 B: S, ^5 [: s2 O, i+ N3 P; W
$ v4 ~! r' u5 [0 n @$ r不会提醒一下,看你电镀要求是镍0.5微米,粉末压制成型的工件使用铜来填充 但是肯定还是有间隙,注意电镀后吐酸问题,这个问题可能比你抛光还难解决
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