各种热处理工艺代号及技术条件的标注方法8 F [( f8 i/ y7 T" w" n2 \ d( M" z
i4 V( k/ e( n( Y$ A4 b9 ?- L热处理类型 代号 表示方法举例 + B4 p! d( e* M7 h; q- N 4 z) ?5 {7 R( S3 x! E% k$ ~退火 Th 标注为Th2 z$ @" U k, V8 ^1 f) ?0 z- s
0 ^ t8 h( w/ j8 x0 C2 f( k6 [正火 Z 标注为Z / r4 M7 X$ \6 c f" I% E' }! ?. P' [# H# G. q& c" H 调质 T 调质后硬度为200-250HB时,标注为T235 ! t) d2 D1 W, { Y9 Z% A# ]2 \ / W/ Y. H7 y; ]淬火 C 淬火后回火至45-50HRC时,标注为C48 5 q2 l+ j& D; c0 d. Y3 z$ [7 f" D3 q! @8 |2 G8 p8 m" B 油淬 Y 油淬+回火硬度为30-40HRC,标注为Y35 8 e; }# }) y5 s+ Z+ d* g' n0 C# a7 w0 |# } 高频淬火 G 高频淬火+回火硬度为50-55HRC,标注为G52 5 t, y) K6 p1 m& c: Y4 [5 n0 V* c! n6 v' B) N. Y 调质+高频感应加强淬火 T-G 调质+高频淬火硬度为52-58HRC,标注为T-G54( Z# R; K. w0 v * \; N6 T4 `* U; Y' I3 F( F 火焰表面淬火 H 火焰表面淬火+回火硬度为52-58HRC,标注为H54 2 K# i0 f' Q5 y- j6 N 7 F0 e' v k" O氮化 D 氮化层深0.3mm,硬度>850HV,标注为D0.3-900, u+ y; X; p- @. }2 b0 U2 y- s
3 i, ^! t1 o6 ^* d/ }( ?5 J渗碳+淬火 S-C 氮化层深0.5mm,淬火+回火硬度为56+62HRC,标注为S0.5-C59& G* q+ V- A" c6 {
& s( [) S: m' v' w+ v氰化 Q 氰化后淬火+回火硬度为56+62HRC,标注为Q59 + |! f7 u) F. Z; Z) h 3 q, i- L5 [3 r" Q- @8 K2 D) {1 U渗碳+高频淬火 S+G 渗碳层深度0.9mm,高频淬火后回火硬度为56-62HRC,标注为S0.9-G59 |