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设备内部如何控制洁净度 要求达到class10标准

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1#
发表于 2024-5-31 23:23:21 | 只看该作者 回帖奖励 | 倒序浏览 | 阅读模式
各位大佬求助一下,半导体设备内部要求运动的时候洁净度等级要达到class10,有没有知道要如何入手,以及应该测哪些位置,一定要所有位置都达到classq10吗?怎么确定测哪些点
2#
发表于 2024-6-1 08:53:45 | 只看该作者
加过滤,加抽风,用符合要求的材料和运动方式
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