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钨铜合金表面怎么进行无纹路抛光处理

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1#
发表于 2018-5-15 10:53:20 | 只看该作者 回帖奖励 |倒序浏览 |阅读模式
        钨铜产品(含钨90%,铜10%,钨粉压制成型后将铜融化渗入坯料),硬度约220-240HB,进行精雕表面或者研磨表面处理后表面粗糙度Ra可以达到0.4以下,但是在20倍显微镜下会有明显加工纹路或者浅划伤,不能进行震动或者滚筒抛光(会碰伤),怎么解决该类产品的表面问题,求大神赐教。。3 ~3 {6 q" ~: A5 W
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2#
发表于 2018-5-15 11:40:00 | 只看该作者
没有产品形状的都是耍流氓
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3#
发表于 2018-5-15 13:46:26 | 只看该作者
1.理论上通过机械抛光获得的表面粗糙度最小,对于W70Cu30合金可达到0.044 μm,电解抛光次之,机械磨光最大;
! R' s4 o) t' O% V2 d2.硫酸-磷酸系适用于W90Cu10 的电解抛光, 初步确定了电解抛光的最佳工艺参数为:硫酸与磷酸体积比2 ∶7 、温度为45 ~55 ℃、抛光时间4 ~ 6 min 、电流密度15 ~ 25 A/dm2 。经电解抛光, 试样表面相对反射率高达90 %以上, 原始表面的微小的划痕可以完全消除。
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4#
发表于 2018-5-15 13:56:02 | 只看该作者
好整,看形状与公差要求。无图无真相
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5#
 楼主| 发表于 2018-5-15 15:01:01 | 只看该作者
一朵娇粉嫩的花 发表于 2018-5-15 11:40; Z; B0 B) x8 D3 y0 n5 s
没有产品形状的都是耍流氓
9 m# L% N' i7 ?
这是产品 的基本要求

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6#
 楼主| 发表于 2018-5-15 15:02:45 | 只看该作者
老烟枪 发表于 2018-5-15 13:56/ u- G5 y$ o) ]" |
好整,看形状与公差要求。无图无真相
+ q* E8 W$ u; C; ]$ I2 M& E
要求表面无纹路6 q7 E$ c  i8 _2 `2 r

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7#
 楼主| 发表于 2018-5-15 16:11:52 | 只看该作者
xuzele 发表于 2018-5-15 13:46$ A9 c& e* F" ]5 L3 \  U" N- J$ C
1.理论上通过机械抛光获得的表面粗糙度最小,对于W70Cu30合金可达到0.044 μm,电解抛光次之,机械磨光最大 ...
8 c( ^# T5 B/ w2 f/ ?7 y; F3 s
刚才试过你这个方法了,但是没反应,倒是316不锈钢可以抛光; l4 v; @' a: D
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8#
发表于 2018-5-15 16:36:51 | 只看该作者
xushunqiang 发表于 2018-5-15 16:11: @. n# Q) n/ [- ]1 q
刚才试过你这个方法了,但是没反应,倒是316不锈钢可以抛光

# ]8 F, }9 f* K+ m  F( E  L$ ~+ ]  ~你试的电解抛光吗,没反应可能是因为钨铜表面必须预加工到比较高的光洁度,电解抛光才能获得较高的抛光质量,抛光前要除油去氧化处理,电解液要加入聚乙二醇、硫脲、丙三醇等作为添加剂。
( D) H# V) W/ [. C* c' S6 c1 _- K9 a8 T" Z1 d! x, l$ _
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9#
 楼主| 发表于 2018-5-15 18:22:10 | 只看该作者
xuzele 发表于 2018-5-15 16:36
8 c  x  [6 v6 E  v, M! h' k你试的电解抛光吗,没反应可能是因为钨铜表面必须预加工到比较高的光洁度,电解抛光才能获得较高的抛光质 ...
) b- j6 |% J. \: x- E
抛光前Ra小于0.15,是用的电解法,聚乙二醇聚合度多少呢?方便告知这三种添加剂的加入量吗?1 p' v2 B, v% A$ B( v4 s
( y( U( m4 C, d" k; a4 ]3 p
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10#
发表于 2018-5-15 18:44:24 | 只看该作者
化学机械抛光,平面研磨抛光,lapping,我说的这个三个名词其实是同一种抛光工艺,可以做到完全无划痕/ z) P& m% z- j; q& `
0 G" P: `  b3 J: k  d
但是价格不会很便宜,你可以上网搜索下能加工的供应商( C% g% h& w& I! v  M+ o, H2 S

7 t& m2 C# X, V2 K- ]. ]  @+ S+ n不会提醒一下,看你电镀要求是镍0.5微米,粉末压制成型的工件使用铜来填充 但是肯定还是有间隙,注意电镀后吐酸问题,这个问题可能比你抛光还难解决
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