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Re: CVD鑽石薄膜材料,中国人搞的
五、其他可供應用方向6 X9 x* Z1 L. B+ _$ k
1、Diamond bonding tools for semiconductors(TAB Tool)
" a: ^" u. Q# b, r3 R1 ]2、submonuts for LASER High Power LED
. J9 W; n( f! z/ d" U' k3、CVD Diamond Disk
' K& x5 V2 C1 {9 c5 d. ~9 z以全球鑽石膜生成及拋光技術來論,日本住友電工長期以來一直在CVD領域從事不同性狀與品質需求的CVD Diamond產品,供應工業加工用途、或為次世代電子元件的產品。6 a) j+ v- m* }" N& H+ l Q
1995年住友電工發表大面積3英吋CVD Diamond Wafer製作及研磨試作成功;1998年發表利用大面積CVD Diamond Wafer製作2.5G Hz Diamond SAW元件,用於高頻產品;2001年發表5G Hz Diamond SAW發振元件;2004年將CVD Diamond Wafer及 Diamond SAW關鍵製作技術授權並導入精工EPSON。
; \" @9 ^6 y) |0 YEPSON在Diamond SAW元件早已開發完備商品化,並繼續開發更高頻率元件、半導體場發射元件、高純度奈米多晶Diamond、高性能Diamond Heatsink元件、LASER Diamond Heatsink、高功率FET等元件,且多數已開發完成,但這幾年來以上這些高階元件遲遲未見市場化,其關鍵在於CVD Diamond Wafer未能有效量產化,材料取得不易,製造成本太高,無法降低成本之原因。
0 E+ J, Z" N$ A2 {7 v, S# G我公司完成以4吋 1mm矽晶圓基材、達成面粗度8nm鑽石薄膜晶片,單機日產8片,良率達95%之成果,完全可達商業量產化之要求 |
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