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等离子喷涂------必须要在真空中进行吗?

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1#
发表于 2011-6-6 07:29:17 | 只看该作者 回帖奖励 |倒序浏览 |阅读模式
为何一提到等离子喷涂就是真空呢?
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2#
发表于 2011-6-6 07:54:34 | 只看该作者
哪位高手介绍一下等离子喷涂的原理、特点、用途等,学习学习。谢谢。
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3#
发表于 2011-6-6 09:44:21 | 只看该作者
等离子喷涂本身不是在要求真空中进行的。只是等离子喷涂现场的噪声非常大,远远高于78~85db,长时间在那个环境中人带耳塞都受不了。可能是为了降噪,要求真空进行吧。
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4#
发表于 2011-6-6 10:27:15 | 只看该作者
你最好先了解了解什么是叫“等离子”,然后就自然知道为什么要在真空里面进行了!% h) i" j( h" o# v8 i5 U
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5#
 楼主| 发表于 2011-6-6 21:55:10 | 只看该作者
真能搞笑,我手中就有等离子,没事就打开玩。
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6#
发表于 2011-6-7 10:45:29 | 只看该作者
你学过高中物理不,里面有说到PVD(物理气相沉积),CVD(化学气相沉积),等离子喷涂基本就是物理气相沉积,如果你忘记了那你百度一下看看原理吧,PVD是利用等离子电浆轰击靶材,然后要涂覆的金属原子就沉积在产品上,半导体厂都有这个工艺,一般是沉积AL,TIN,TI
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