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标题:CVD鑽石薄膜材料,中国人搞的 [打印本页]

作者:jamesliu8029 时间:2007-3-16 20:00
标题:CVD鑽石薄膜材料,中国人搞的

6 B- d! @' I- F( a5 |

: e& d6 @. z/ x 1 s; J o7 c# Z& Y 3 V" F1 M0 p& z4 d ) K& s5 F ]3 y9 L* _. Q ( G: x6 r% B4 M" k 1 G4 `; U. Y l- r* @+ k * N6 T" i3 y% L- J. P 8 ]- H m [- f4 a* p# }! y" o - F# a s6 c7 \2 N 9 H( h3 Y9 a" A9 S; {* r$ N 0 T+ V* X( j1 @2 e4 a" G4 D 6 Z9 L6 m4 H& I- D! X/ K 9 ]3 o# K$ j8 j$ n 3 K; ?& m* ^" u/ y! c: t8 S( F 6 `5 \2 |* k9 L4 s+ G% u2 D & h3 O, p0 T/ s, ~# o! O4 Y6 j * `" F% i8 a' b* M " y. A, l7 P% m 9 x2 {. L# i5 `& E& y% v * X/ D& A, z$ P! i( U$ L - n; L# F1 Y3 d, |+ H 4 a- `: r8 t# s! W- u* L, L : w/ J7 |. g6 r6 e D C. o, J6 V9 ? y " A2 D& R2 i, R- v: e$ f6 s3 U: ? ) |1 _5 B0 a8 A( ] 1 J, G# I# Q6 I m8 X) J + B; p0 k! z4 {" t ' Y6 u0 x* x' R# a ' Y9 s9 d9 W6 [* V
' @( H0 m; r# t) S5 G' x

X -光分析( XRD ) – shimadzu XRD-6000 ( 40kv30mAstep 0.02 deg.speed 4 deg. / min. fficeffice" />

) w1 Q2 `3 X5 k( U v9 R1 e

or 1 deg. / min.)

1 }. q% B8 \' i# t9 D: w

◎晶體結構

& N, X* [; o) \$ n5 |

Cubic

E+ Q$ \7 `+ c2 D

◎空間群

) w( S* E6 P; u! v# r" ^. i F! l

Fd– ffice:smarttags" /> 3m

) m) A" L) ]. D2 y9 b7 T# t

◎晶格參數(R.T)

+ R8 m' U( {8 f& Q! z* i9 [8 E5 `! U5 Y

(A) 3.570

5 {0 F1 r/ L+ ] h( B$ l

◎密度(g/cm3)

% X0 T7 i: }/ y# V& e, G6 W0 X

3.508

6 Z& F6 `0 Q/ P2 \

◎晶面(111)

. F( Z3 c0 z4 B& q5 s M

202

: H0 O3 s! Z' Q! C4 u+ A

粗糙度分析( SPM ) - Thermo Microscopes CP Research( 50 μm * 50 μm )

$ J G2 Y( D2 Q- E, F& p2 D; d

◎中心線平均粗糙面Ra( Ave. Rough )

; z! O% A, Z- n3 {' c

總面積/底長86.39 nm霧面,1.052 nm亮面。

$ T" Y. v3 X4 L' V

◎中心線均方根粗糙面Rq( Rms Rough )

9 M5 B5 |& x6 U5 C+ r* u, K

104.8 nm霧面,1.321 nm亮面。

) x2 J5 {5 @" B0 j& X7 t

Rp 250.4 nm霧面,2.592 nm亮面,Rv 189.1 nm霧面,6.156 nm亮面。

+ N6 W6 i) t) l& h5 J8 u

◎高低差異值為8 nm亮面。

7 F6 m' X7 ~+ I' m+ a

. v' r. D$ [! p5 B- p

7 \- g* j3 T+ w8 \4 g0 {

9 {! [% ]1 n' z3 [

9 r: U1 q0 D' Q, `& {1 ^

1 A s/ g+ t' U6 W. M' j' e! W

4 l4 Y( h1 I2 j% T% r. i

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' m& B4 J- y$ Z7 _8 H* B& c2 v

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( L6 V: U8 z. h" s: |

9 }* Z+ r9 F8 `6 M1 v% ~

3 _3 H) Q Z: E% o8 E6 R3 c7 I

0 m' L5 |1 U3 }

' M. I! ~0 h9 L

圖片:

- h( F8 {$ \- h! Y

顆粒顯微分析一

2 \2 M) _9 o" \/ H1 a8 T

http://images13.51.com/10/a/50/c6/jamesliu8029/c75c1677bcef434a879d7d44eeaad6f9.jpg

" U. Q2 n( `" R& T

顆粒顯微分析二

2 m; X8 l* ?, L! ?$ ^6 A3 L

http://images13.51.com/8/a/50/c6/jamesliu8029/002cc1a954517aaa99a89fa79f5630f6.jpg

& T4 \( x& M' \5 N" T) G

顆粒顯微分析三

M3 {: g4 O, a+ G, B& e

http://images13.51.com/10/a/50/c6/jamesliu8029/77da81c0c62a779263590857a6c9a566.jpg

7 I( j0 V" A# ^+ v7 H

顆粒顯微分析四

' S+ R/ e) x9 c1 L% M

http://images13.51.com/10/a/50/c6/jamesliu8029/f04619a8a3620c771d15dd9e2cde7c39.jpg

- X$ N4 m3 ~2 p' v; @

顆粒顯微分析五

) `8 ^- x( A5 m$ Y# S6 ?

http://images13.51.com/1/a/50/c6/jamesliu8029/9c35afd2e5743f30280c0bdcde90541c.jpg

% M) p* u" o! q3 c0 V0 H

顆粒顯微分析六

3 ~" U8 T; x! Z5 k$ \

http://images13.51.com/9/a/50/c6/jamesliu8029/45e49448cff9f6edffdd3dfc5fa04ad9.jpg

( n% w8 U% P; ^. a

顆粒顯微分析七

" r) \ g5 K* A# J2 }

http://images13.51.com/1/a/50/c6/jamesliu8029/aa0eb2392c3d8a47d29f8e3bb9cebd42.jpg

' B! |% R( `1 ?7 y- O- B1 H

+ F. f* @9 O6 J# b4 w5 v


作者:jamesliu8029 时间:2007-3-16 20:10
标题:Re: 日本人行,中國人更行!!!
補充:
# ^; o" k8 w% v5 N: n這是完全由中國人研發並拋光完成的CVD鑽石薄膜材料
7 z) [* ]0 Z' `& V. e日本人做到2吋!!中國人做到4吋
C( L+ {: l4 A; d' N圖一是鑽石膜晶片拋光品質
9 y l& ?) f+ W* W圖二是拋光與未拋光之比較
" k6 @* R. P+ Q, {! [+ c# V圖三至圖七是電子顯微鏡照片
作者:深南大道 时间:2007-3-16 20:25
标题:Re: 日本人行,中國人更行!!!
呵呵,希望中国的各行各业都能像这样超过日本人~~~~
作者:jamesliu8029 时间:2007-3-20 23:50
标题:Re: 日本人行,中國人更行!!!
為啥沒人頂??不懂材料特性??
' |) U6 w3 R7 S1 }' r' W我再補充一下!!!
" H0 j: Y, _' K" e鑽石的硬度在100GPA密度3.2g/cm3以上,熱傳導率1300~2100W/mK(銅397),比熱1.81J/cm3K(銅3.4),熱擴散率7.2~11.6cm2/s(銅1.16) 1 F" i8 |6 {$ w& x# ]6 I5 u
其散熱及不沾粘性是世界公認 2 a6 F1 n& a, Q- Q
在電子應用LED上可替代藍寶石基材,可作IC等散熱片 / s9 O/ b8 c/ g$ H
在機械行業可用精密模具(如鏡片)、耐磨材料
! t0 D e c+ O) J" ~我的QQ是473137404
. V& g6 b$ u4 B/ y" j歡迎大家一起討論
作者:lwm789 时间:2007-3-21 09:40
标题:Re: 日本人行,中國人更行!!!
不懂不懂,请教:这种钻石薄膜是柔性的吗?可以做密封件吗?可以成型吗?是否有买?价格是否很贵?谢谢。
作者:jamesliu8029 时间:2007-3-21 13:17
标题:Re: 日本人行,中國人更行!!!

原帖由 滴水天发表 2 D) a2 ~5 p- Y不懂不懂,请教:这种钻石薄膜是柔性的吗?可以做密封件吗?可以成型吗?是否有买?价格是否很贵?谢谢。

0 A3 E0 c" l/ T: g2 y% `- V

這是平面剛性材料,因需拋光,才能達到1.052奈米的粗糙度,用於耐磨導靠零件,耐酸鹼,可替代所有超硬材料,現規格是四吋

4 ~: B! `$ B; a% E

可惜不是柔性的!!如有興趣研究者,可與我連系

/ n; C; }, s+ ?/ _( f4 F0 C

QQ: 473137404


作者:海山 时间:2007-3-21 14:31
标题:Re: 日本人行,中國人更行!!!
想了解下:使用什么设备(哪国的)来制造的?
作者:jamesliu8029 时间:2007-3-21 15:06
标题:Re: 日本人行,中國人更行!!!

中國人自行開發的CVD設備


作者:cmx 时间:2007-3-21 15:22
标题:Re: 日本人行,中國人更行!!!
只知VCD,CVD?液晶面板。。。?
作者:jamesliu8029 时间:2007-3-21 15:39
标题:Re: 日本人行,中國人更行!!!

fficeffice" /> 化學氣相沉積技術(Chemical Vapor Deposition縮寫CVD)

0 @ m T/ ~& B; f

ffice:word" /> 化學氣相沉積是製造微電子元件時,被用來沉積出特定薄膜(film)的技術,所沉積出的薄膜可以是介電(dielectrics)、導體、或半導體。

( ^) i0 k1 [7 c

3 [/ o7 J+ W% r. g2 O4 v) E1 M

; e$ U$ G+ P9 n+ C l* M' s/ K

, F2 y2 R7 t A" |+ x

物理氣相沉積技術(Physical Vapor Deposition縮寫PVD)

: u* P1 g7 {9 q8 s8 a5 H0 j

物理氣相沉積應用方式與化學氣相沉積相似,主要有三種製程:蒸鍍(Evaporation Deposition)、離子鍍(Ion Plating)、濺鍍(Sputtering Deposition)及衍生性濺鍍。


作者:cmx 时间:2007-3-21 15:53
标题:Re: CVD鑽石薄膜材料,中国人搞的
谢谢!望这项技术继续发展,硅谷也得改改名,呵呵。
作者:jamesliu8029 时间:2007-4-23 23:30
标题:Re: CVD鑽石薄膜材料,中国人搞的
自己頂一下!
! n9 p+ a9 U9 O( i; j2 N2 S- j鑽石薄膜晶片可應用領域 ! Y' `9 Z5 Z" j: U, G! X+ b
一、SAW(聲頻濾波器)--GHz高頻濾波器、高品質光電無線通訊
9 ~0 D0 T* O. d/ d/ l* f) ]2 \二、紫外線發光LED--高容量光記錄器 * X5 n. h. H( U" U
三、高功率LASER二極體散熱片--通信顯示器、光源 1 b2 P* }# A% s3 x
四、高熱源元件散熱器--高階NB-CPU散散器、Desk PC-CPU散熱器
& v( y2 g( f t- |8 R+ {
作者:jamesliu8029 时间:2007-4-23 23:35
标题:Re: CVD鑽石薄膜材料,中国人搞的
五、其他可供應用方向 & _- ~! |- j$ Z+ c9 h
1、Diamond bonding tools for semiconductors(TAB Tool)
. g# _% U) i4 L$ r x2、submonuts for LASER High Power LED - y- Q* H' o+ ?1 d" r7 T4 @
3、CVD Diamond Disk * P+ j; W, K, n/ W( x
以全球鑽石膜生成及拋光技術來論,日本住友電工長期以來一直在CVD領域從事不同性狀與品質需求的CVD Diamond產品,供應工業加工用途、或為次世代電子元件的產品。 - Y. v3 ]% d5 q9 L
1995年住友電工發表大面積3英吋CVD Diamond Wafer製作及研磨試作成功;1998年發表利用大面積CVD Diamond Wafer製作2.5G Hz Diamond SAW元件,用於高頻產品;2001年發表5G Hz Diamond SAW發振元件;2004年將CVD Diamond Wafer及 Diamond SAW關鍵製作技術授權並導入精工EPSON。
0 v ^& f7 M/ U3 T& u: J+ S9 ^/ g. xEPSON在Diamond SAW元件早已開發完備商品化,並繼續開發更高頻率元件、半導體場發射元件、高純度奈米多晶Diamond、高性能Diamond Heatsink元件、LASER Diamond Heatsink、高功率FET等元件,且多數已開發完成,但這幾年來以上這些高階元件遲遲未見市場化,其關鍵在於CVD Diamond Wafer未能有效量產化,材料取得不易,製造成本太高,無法降低成本之原因。
" G0 V; s; M6 L3 Z ~$ }1 C5 u我公司完成以4吋 1mm矽晶圓基材、達成面粗度8nm鑽石薄膜晶片,單機日產8片,良率達95%之成果,完全可達商業量產化之要求
作者:jamesliu8029 时间:2007-4-23 23:41
标题:Re: CVD鑽石薄膜材料,中国人搞的
鑽石薄膜的耐高溫、耐磨損、不沾黏的特性,故在IT產業上用于Diamond bonding tools for semiconductors(TAB Tool) 表面(上項照片平面之部份)
* f# ?' G, n! m6 ~- s2 n用於機械產業可用於耐磨件、導靠件上
, h f p0 t6 {" {能否請各位高手大大提供關于機床可以應用在那些零部件??
! |& J7 p6 V2 D' v/ q: K




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