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标题: QPQ处理试样孔洞层抗蚀性的研究 [打印本页]

作者: renliangbing    时间: 2009-5-24 16:09
标题: QPQ处理试样孔洞层抗蚀性的研究
QPQ处理试样孔洞层抗蚀性的研究
作者: 林围    时间: 2009-12-7 23:29
QPQ处理后产生空洞层其实是化合物层疏松或是分层,一般产生的原因有四点,7 [9 \, M, H& d
1.氮化盐浴中悬浮的颗粒状渣太多。
% y  F; e; v. ~$ ^/ `2.氮化盐熔化时加盐方法不对或炉温不均,盐浴局部过热。; S! w9 J* B* h' ^3 }3 D
3.氮化时间太长。- _: \6 g+ u/ Y  J  G/ x1 _
4.氮化温度太高! B  E' n% ?# z, h
一般的解决方法有以下四点
& s9 D" X2 O: k1.先用捞渣勺捞渣,再用炉渣器滤渣2-3遍。
6 _' l. y5 C! `8 \$ y7 H2.严格按操作规程化盐,必要时可调整电炉功率或炉丝分布。4 k( q- X6 u. q9 J* [  }
3.适当缩短氮化时间。
- ]1 z4 p# C/ X4 S& [% Q4.降低氮化温度过高。
作者: z9166    时间: 2010-1-5 19:46
QPQ工艺好象是有三个阶段,热处理后,精磨再热处理,再盐浴氧化




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