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标题: 中国自产的光刻机是什么精度的 [打印本页]

作者: 军师不信邪 时间: 2024-10-16 15:50
标题: 中国自产的光刻机是什么精度的
听说中国自产光刻机了，中国自产的光刻机是什么精度的？

作者: cangzhoumj 时间: 2024-10-16 16:06
都会有的

作者: 卢Tiger 时间: 2024-10-16 16:11
听说是14纳米

作者: 不是高级工程师 时间: 2024-10-16 16:12
成熟产品14纳米，7纳米也产，良品率低。

作者: HaloSmart 时间: 2024-10-16 16:12
规模化的稳定在28nm吧

作者: 军师不信邪 时间: 2024-10-16 16:21
挺想换手机的喜欢华为但华为太贵，性价比低我有玩游戏的习惯

作者: 来自何方 时间: 2024-10-16 16:39
找欧皇做一百亿个总有一个传说

作者: 前景钱 时间: 2024-10-16 16:57
前两年那个HW的7纳是哪里生产的？

作者: 鸟与鱼 时间: 2024-10-16 17:05
目前的状态是分辨率65nm，意味着有机会能刻出65nm芯片，不计代价多重曝光的话，或许还能努力够到28nm芯片

作者: 学者11 时间: 2024-10-16 17:06
。在《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录（2024版）》中提到了国产光刻机的一些参数：光源波长为193纳米，分辨率为65纳米，套刻精度达到8纳米或以下。这表明该光刻机能够用于65纳米及以上工艺节点的集成电路制造

作者: 君越168 时间: 2024-10-16 17:22
不要看别人说什么，看看高精度机床有国产的嘛？实验室的东西没有用，听说也是用国外的二手设备组装的

作者: 华2017 时间: 2024-10-16 18:37
看用在哪里吧！芯片不是越小越好的。

作者: 尹志春 时间: 2024-10-16 21:25
1米左右，应该能达到，
中国在这方面还是很差的，

作者: 1409787773 时间: 2024-10-17 08:13
四重曝光等效7-5纳米

作者: 救赎. 时间: 2024-10-17 08:58
光刻机难的不是某一个设备的精度而是一整套系统的最低精度因为老美会一次次的封锁你，（我也不是很懂大概意思如此）比如要生产芯片要原材料原材料生产设备零部件零部件生产设备等等一系列设备产出物最后在放到光刻机上出来的成功率多少的高等级芯片，比如现在老美封锁光刻机等你光刻机成熟了就封锁你原材料等等一系列的，因为要保证最后产品的精度，肯定是前面一系列设备累计公差得到的最小公差个人理解

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