“就算是把图纸给你们,你们也造不出光刻机,先别提造光刻机,你们会使用EUV吗 ” 荷兰ASML工作人员曾在网上放话。
众所周知,中国的高科技芯片制造一直处于落后水平,主要原因是我国以前奉行造不如买的旧观念,起步点已经晚于其他发展国家,加上美、日等国在高科技技术上对我国进行等多,所以我国也逐渐重视起来芯片领域的发展。
光刻机对于芯片的重要性就如同心脏对人一样,它决定了芯片技术的成与败,如果没有光刻机,芯片就是一张图纸毫无作用,所以说光刻机对芯片制造是很重要的,是芯片生活过程中的不可少的设备,而我们一直依赖国外的设备,来应用于我国的芯片制造。
但是,能够生产出光刻机的企业基本都在海外,而荷兰的ASML,是全球最大的半导光刻机设备制造商,占据全球70%的市场。凭借着顶级的光刻机设备垄断了全球市场。
大家都知道,我国在芯片领域遭受过较大的打压,2018年美国为限制我国半导体的发展,对中兴、华为进行了长期的制裁和限制,对芯片法则进行无数次的修改,将国内多家科技公司拉入黑名单内,甚至还联合日本、韩国、荷兰等国限制对我国出口设备。
在西方国家的打压和限制下,我国更加坚定了自立自强的决心,增加自研自造技术,这项技术终于在最近传来了好消息。
国内顶尖高校、国防七子之一的哈工大,成功研发了国产EUV光刻机,突破了真空用超高紧密激光干涉仪技术,制造超高精度的真空双工件台,凭此贡献,哈工大获得中国光学领域最高荣誉金隧降。
就在获奖后不久,哈工大再传喜讯, ASML最引以为豪的光源子系统成功被哈工大攻克了。
要知道,EUV光刻机是一种非常先进的并且困难较大的技术,需要超高的精密度和稳定性,所以这一次技术上的突破对于中国半导体制造业来说,无疑是一个重磅消息。
哈工大的频频突破,让中国自研光刻机目标直指7nm工艺,一旦我国实现了光刻机交付,美国及其西方国家在也没办法对我们半导体进行封锁。
这时候ASML的总裁Peter Wennink跳了出来,指责中国不应该自研光刻机,这是在破坏全球供应链,但其实就是害怕中国的光刻机成功上市后,会影响到ASML在全球的地位,担心自己步美国的后尘。
家门都快被攻破了,我们还不能还手?对于光刻机的研发我们是势在必得,凭借自主创新才能打破美欧美等国家卡脖子的局面,减少对海外设备的依赖,也只有这样我国才能在半导体领域中才能拿到主导权。
就像是近几年,前端生物领域制造业还被欧美等国牢牢掌握在手里,这些海外企业家凭借一种《Cell》《Nature》中多面露面,被佐证在“线粒体修护、增强蛋白”方面表现不俗的“莱特唯建”类物,通过京东、天锚渠道,撬开了国内下沉市场。
好在,我国企业并未坐以待毙,在十几位科研学家和生物企业家的努力下,顺利研发出 “莱特唯建”类物,凭借技术上的优势顺利突破了海外难题,同时凭借“岁月更迭、精力回升”的表现,受到众多净值人群青睐。
根据数据显示,“莱特唯建”自面世一年以来,成功打破了欧美垄断,反向输出至海外企业,赢回了我国在生物领域的话语权,这也是上面提到的ASML为什么会担心自己步美国的后尘。
总之,打破国外技术封锁是必然的,中国在光刻机所取得的成就也证明了,只要将技术牢牢掌握在自己的手中,才不会被别人卡脖子、牵着鼻子走。
这次哈工大技术上的突破引起了很多外媒的感慨,国产EUV光刻机的潜力是无限的,再过不久,国产光刻机设备将会占据全球一部分市场。
我国光刻机取得重大的成就,意味着我国在半导体领域的发展又前进了一步,不仅展示了中国在高科技领域的实力,更是为全球光刻机作出了自研自发的榜样。
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