消息称 ASML 将向中国推出“特供版”光刻机
根据 DigiTimes 报道，ASML 试图规避荷兰新销售许可禁令，面向中国市场推出特别版 DUV 光刻机。消息称如果该项目继续推进，中芯国际、华虹等中国半导体企业可以继续使用荷兰的设备生产 28 纳米及更成熟工艺的芯片。
https://nimg.ws.126.net/?url=http%3A%2F%2Fdingyue.ws.126.net%2F2023%2F0706%2F44774cacj00rxd11v0018c000lc00e8g.jpg&thumbnail=660x2147483647&quality=80&type=jpg
图源 ASML
消息称该特别版 DUV 光刻机基于 Twinscan NXT: 1980Di 光刻系统改造，而 1980Di 是 10 年前推出的旧型号，不在本次官方禁令范围内。
1980Di 是 ASML 现有效率比较低的光刻机，支持 NA 1.35 光学器件、分辨率可以达到 <38 nm，理论上可以支持 7nm 工艺。
大多数晶圆厂使用 1980Di 光刻机，主要生产 14nm 及以上工艺芯片，很少使用其生产 7nm 芯片。 政府摆足姿态要禁止出口，可ASML总能找到空子
既满足了政治正确，又不耽误挣钱 价值都是时限的，这个大家都懂，
就像刚出来的彩电，到现在电视还有谁看 这样是不是价格可以卖的更贵？
上有政策下有对策;P
页:
[1]